Estudio de la temperatura de crecimiento sobre la cristalinidad en películas delgadas de BaTiO3

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Alfredo Márquez-Herrera
Eric Noé Hernández-Rodríguez
Guadalupe Zapata-Torres Martín
María de la Paz Cruz-Jáuregui
Miguel Ángel Meléndez-Lira

Resumen

Películas delgadas Ferroeléctricas de BaTiO3 (BTO) se depositaron a partir de un blanco de BaTiO3 mediante la técnica de RF-Sputtering (erosión catódica por radio frecuencia) sobre substratos de nicromel y cuarzo. Se estudió el efecto de la temperatura de sustrato in-situ en la cristalinidad del material durante su depósito. Estas muestras fueron comparadas con películas depositadas a temperatura ambiente y tratadas térmicamente posterior al depósito fuera de la cámara de crecimiento. El estudio de la cristalinidad fue realizado mediante la técnica de difracción de rayos-X. Adicionalmente, se llevaron a cabo caracterizaciones ópticas mediante un espectrofotómetro UV-Vis. El crecimiento de películas delgadas con temperatura de sustrato permite la obtención de materiales cristalinos a temperaturas por debajo de las reportadas por otros autores.

Detalles del artículo

Cómo citar
Márquez-Herrera, A., Hernández-Rodríguez, E. N., Zapata-Torres Martín, G., Cruz-Jáuregui, M. de la P., & Meléndez-Lira, M. Ángel. (2013). Estudio de la temperatura de crecimiento sobre la cristalinidad en películas delgadas de BaTiO3. Ingeniería Investigación Y Tecnología, 14(3). Recuperado a partir de https://revistas.unam.mx/index.php/ingenieria/article/view/39946

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